Analist: Çin'in EUV teknolojisi ASML'nin 2004'teki seviyesinde
GÖRSEL · tomshardware.com
UBS analisti, Çin'in aşırı morötesi litografi (EUV) yeteneğinin ASML'nin 2004'teki seviyesine benzediğini belirtti. Analiz, Çin'in derin morötesi (DUV) litografide iki ila beş yıl içinde kitlesel üretime geçebileceğini ancak EUV'de uzun süre geride kalacağını öngörüyor.
UBS analisti Francois-Xavier Bouvignies, müşterilere gönderdiği notta Çin'in litografi ekipmanı üretim yeteneğinin pazar lideri ASML'nin 2004'teki durumuna benzediğini yazdı. Bloomberg'e göre analist, önümüzdeki iki ila beş yıl içinde Çinli şirketlerin daldırmalı DUV litografi sistemlerini kitlesel miktarlarda üretmeye başlayabileceğini, ancak Çin yarı iletken sanayisinin Batılı rakiplerinin gerisinde kalmaya devam edeceğini belirtti.
Çin'in yarı iletkende kendine yeterlilik arayışı, yıllardır ASML, KLA ve Lam Research gibi lider üreticilerin nispeten gelişmiş ama en yeni olmayan aletleriyle ana akım çipleri eski düğümlerde üretme kapasitesine dayanıyordu. Son yıllarda ise Çin, en yeni çip üretim aletlerine erişemez hale geldi ve bunları yurt içinde üretmek zorunda kaldı. ACM Research, AMEC ve Naura gibi şirketler kimyasal biriktirme, temizleme, aşındırma ve oksidasyon/difüzyon aletlerinde dünya standardında ve seri üretilen ürünler geliştirmiş olsa da, hiçbir Çinli şirket modern düğümlerde çip üretebilecek rekabetçi bir litografi makinesi geliştirip kitlesel üretime geçiremedi.
Fotolitografi, ileri yarı iletken üretiminde teknolojik olarak en karmaşık ve zorlu tekil süreç kabul ediliyor. Litografi sistemleri on binlerce bileşen içeriyor ve gerekli konumsal hassasiyet olağanüstü yüksek; çözünürlük, kaplama hizalaması, odak kontrolü, makineden makineye eşleşme gibi pek çok gereksinim aynı anda karşılanmak zorunda. Tarihsel olarak bir düzineden fazla şirket litografi aleti üretirken, karmaşıklık arttıkça sadece ASML, Canon ve Nikon ayakta kalabildi; ASML tartışmasız pazar lideri ve tek EUV litografi tarayıcısı üreticisi konumunda.
Çin paralel bir yarı iletken ekosistemi geliştirmeye çalışırken, litografi sistemleri üzerinde çalışan birden çok kuruluş bulunduğu bildiriliyor. Bunlar arasında 2002'de kurulan ve Çin'in en önemli yerleşik litografi aleti üreticisi olan Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), SMEE'den türediği belirtilen AMIES, Huawei kontrolünde olduğu bildirilen SiCarrier ve litografi aleti geliştirdiğini yalanlayan Naura yer alıyor.